Intellectual Property Sales List
지적재산 사항
| 국내외 구분 | 국내 | 지적재산 형태 | 특허 |
|---|---|---|---|
| 출원번호 | 10-2021-0014489 | 등록번호 | 1020220111353 |
| 별명(고안)의 명칭 | 니켈층 캐소드 재료의 제작 방법 | ||
| 별명(고안)의 명칭(영문) | Manufacturing method for Ni-rich layered cathode materials | ||
| 지적재산 분야 | 화학 | ||
| 이미지파일[C] | |||
| 첨부파일 | |||
| 특허평가 등급 | 특허평가 점수 | ||
| 기술가치평가 금액 | |||
사업화 정보
| 지적재산 개요 및 요약 | 본 발명은 니켈층 캐소드 재료의 제작 방법에 관한 것이다. 더욱 구체적으로 본 발명은 상간 일관성 일체화 기법(Integrating coherent interphase)에 의해 고성능의 상업적으로 유용한 니켈층 캐소드 재료를 제작하는 방법에 관한 것이다. |
|---|---|
| 지적재산 거래형태 | 투자유치 ( 협의 ) |
| 협의 후 결정 | |
| 지적재산 단계 | 아이디어 단계 |
#니켈층캐소드재료, #상간일관성일체화기법, #고성능, #상업적, #제작방법
