Intellectual Property Sales List
지적재산 사항
| 국내외 구분 | 국내 | 지적재산 형태 | 특허 |
|---|---|---|---|
| 출원번호 | 1020250166280 | 등록번호 | 1029685340000 |
| 별명(고안)의 명칭 | 반도체 세정공정 현장 내에서 수소수, 오존수 및 과산화수소를 제조·공급하는 통합시스템 및 방법 | ||
| 별명(고안)의 명칭(영문) | Integrated On-Site System for Hydrogen Water, Ozone Water, and Hydrogen Peroxide Supply in Semicondu | ||
| 지적재산 분야 | 화학 | ||
| 이미지파일[C] | |||
| 첨부파일 | |||
| 특허평가 등급 | 특허평가 점수 | ||
| 기술가치평가 금액 | |||
사업화 정보
| 지적재산 개요 및 요약 | 본 발명은 메모리 프로세서 반도체 장치의 세정공정 현장에서 직접 수소수, 오존수 및 과산화수소를 제조하여 세정공정에서 사용되는 기능수를 공급할 수 있도록한 것으로서, 더욱 상세하게는 초순수를 제조하는 정수처리부; 상기 초순수를 공급하여 수소 및 산소를 발생시키는 PEM 기반 수전해 스택; 상기 수전해 스택에서 발생된 수소를 초순수에 용해하여 수소수를 제조하는 수소수 제조부; 상기 초순수를 전기화학 스택에 공급하여 오존을 생성하고 이를 초순수에 용해하여 오존수를 제조하는 오존수 제조부와; 상기 수전해 스택에서 발생한 산소와 초순수를 전기화학 반응시켜 과산화수소수를 제조하고 이를 농축하여 세정공정에 공급하는 과산화수소 제조부와;로 이루어진 메모리 프로세서 반도체 장치의 세정공정 현장에서 직접 수소수, 오존수 및 과산화수소를 제조・공급하는 종합시스템 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 초순수만 확보되면 반도체 세정공정 현장에서 수소수・오존수・과산화수소수를 실시간으로 생산・공급할 수 있으므로, 고농도 과산화수소의 운송 및 저장에 따른 폭발・누출 위험을 최소화하고, 초순도 유지 및 금속 불순물 오염 방지가 용이하며, 세정공정별로 요구되는 농도의 기능수를 현장에서 즉시 제조할 수 있어 공정의 유연성・안전성・경제성을 모두 향상시킬 수 있는 효과가 있다. |
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| 지적재산 거래형태 | 권리양도 ( 협의 ) |
| 협의 후 결정 | |
| 지적재산 단계 | 연구개발완료 |
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